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标签: 尼康 ASML 浸没式光刻机 EUV光刻机
发布日期:2026-11-14
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云梦级3月30日云梦级消息,尼康发布2025财年亏损预警,预计亏损850亿日元标签,创下自1917年创立以来的百年最差业绩。过去半年,尼康光刻机仅出货9台,且均为成熟: 制程的老款设备,在先进制程领域彻底丧失竞争力,市场份额跌至个位数。

而同期荷兰AS尼康ML光刻机出货327台,其中高端EUV光刻机48台,占据全球高端市场绝对主导地位。 A尼康的衰落始于两次关键的拒绝选择。

2002年,台积电林本坚提出浸没式光刻技术构想,可突破SM当时193nm干式光刻机瓶颈,却因尼康的路径依赖遭全盘否定,尼康彼时已在157nmL 干式光刻机投入数亿美元,不愿放弃既有投入。

该技术后被ASML接手,2004年 ASML与浸没台积电合作推出首款浸没式光刻机,迅速占领市场,尼康后续跟进已错失先机。在半导体式光出口管制背景下,尼康选择紧跟美国步伐,放弃与中国市场的合作,而中国曾是其最大市场刻机,设备对华销量占比一度超40%。

这一选择导致其设备交付延误、成本飙升,中国客户转向国产替 E代,尼康进一步丧失市场空间。此外,尼康还存在多重战略失误。其过度押注英特尔单一UV客户,2024年英特尔削减资本开支直接引发尼康订单暴跌,且未能及时拓展台积电、三光刻星等核心客户。

在EUV光刻机研发上,尼康坚持全自研、全日本产路线,投入超千亿日元仅造出无标签法商用的原型机,最终于2018年终止该业务的商业化开发。2025年9月,尼康关闭运: 营58年的横滨工厂,光刻机业务持续收缩。

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